Effect of Residual Stress on Lattice Parameter and Hardness of Titanium Nitride Films Deposited by Reactive HCD Ion Plating

نویسندگان
چکیده

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Hardness and Stress of Amorphous Carbon Films Deposited by Glow Discharge and Ion Beam Assisting Deposition

The hardness and stress of amorphous carbon lms prepared by glow discharge and by ion beam assisting deposition are investigated. Relatively hard and almost stress free amorphous carbon lms were deposited by the glow discharge technique. On the other hand, by using the ion beam assisting deposition, hard lms were also obtained with a stress of the same order of those found in tetrahedral amorph...

متن کامل

effect of seed priming and irrigation regimes on yield,yield components and quality of safflowers cultivars

این مطالعه در سال 1386-87 در آزمایشگاه و مزرعه پژوهشی دانشگاه صنعتی اصفهان به منظور تعیین مناسب ترین تیمار بذری و ارزیابی اثر پرایمینگ بر روی سه رقم گلرنگ تحت سه رژیم آبیاری انجام گرفت. برخی از مطالعات اثرات سودمند پرایمینگ بذر را بر روی گیاهان مختلف بررسی کرده اند اما در حال حاضر اطلاعات کمی در مورد خصوصیات مربوط به جوانه زنی، مراحل نموی، عملکرد و خصوصیات کمی و کیفی بذور تیمار شده ژنوتیپ های م...

Determination of Residual Stress of PACVD Nanostructure TiN Coatings by GIXRD Method

In this study, thin layers of titanium nitride (TiN) were deposited on H13 steel substrates at different duty cycles and temperature of 520 ˚C using plasma assisted chemical vapor deposition (PACVD). Uniaxial residual stress was calculated by X-ray diffraction (XRD) and Sin2 Ψ method. Then the residual stress of the samples were measured by Grazing Incidence X-ray Diffraction (GIXRD) method and...

متن کامل

Effect of Cu Content on TiN-Cu Nanocomposite Film Properties: Structural and Hardness Studies

Titanium nitride-Copper (TiN-Cu) nanocomposite films were deposited onto stainless steel substrate using hollow cathode discharge ion plating technique. The influence of Cu content in the range of 2-7 at.% on the microstructure, morphology and mechanical properties of deposited films were investigated. Structural properties of the films were studied by X-ray diffraction pattern. Topography of t...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Journal of the Japan Institute of Metals and Materials

سال: 2001

ISSN: 0021-4876,1880-6880

DOI: 10.2320/jinstmet1952.65.11_972